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光刻机要刻画出多精细的图案？最新技术是1平方毫米(比芝麻还小)里面要有1亿个晶体管。
光刻机的生产效率要达到多高？半导体行业一寸光阴一寸金，芯片转眼间从海鲜价掉到白菜价是常有的事情。所以，光刻机必须24小时连续工作，全年停机时间不超过3%。目前的光刻机一般每小时要出产近300片12英寸(300毫米)晶圆，每片晶圆要做出上千个芯片。这意味着一台光刻机每年要连续加工出数亿个芯片。
光刻机的机台运动要达到多高的精度？如今的光刻机每次移动的定位要精确到几十纳米，也就是头发丝直径的几万分之一。如果用两辆同时移动的车进行类比，两车以每小时3万公里的速度并驾齐驱，它们之间的差值必须小于0.5毫米，才能达到与光刻机一样的精度。
光刻机一次只能曝光指甲那么大的一点区域，一块直径12英寸的晶圆全部曝光一遍至少要移动好几百次。你可以想象光刻机台的移动速度有多快。让动作精密到令人发指的机器24小时全年连续稳定工作，是工程学上的巨大挑战。
我们有时会看到新闻，说某科研单位实现了多少纳米光刻。这时你要理解，从实验室刻出两条线到工厂全年连续光刻作业之间是有天堑横亘着的。