内容简介 · · · · · ·
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。本书覆盖现代光刻技术的重要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺。在设备部分，对业界使用的主流设备进行剖析，介绍其原理结构、使用方法、和工艺参数的设置。在材料部分，介绍了包括光刻胶、抗反射涂层、抗水涂层、和使用旋图工艺的硬掩膜等材料的分子结构、使用方法，以及必须达到的性能参数。本书按照仿真技术发展的顺序，系统介绍基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、亚曝光分辨率的辅助图形、光源-掩模版共优化技术和反演光刻技术。如何控制套刻精度是光刻中公认的技术难点，本书有一章专门讨论曝光对准系统和控制套刻精度的方法。另外，本书特别介绍新光刻工艺研究的方法论、光刻工程师的职责，以及如何协调各方资源保证研发进度。
作者简介 · · · · · ·
2013年 – 至今： 中国科学院微电子研究所研究员、博士生导师；国家科技重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备”首席科学家（沈阳芯源微电子设备公司）。
2009年 – 2013年： 美国格罗方德纽约研发中心光刻经理。
2007年 – 2 008年： 美国安智公司新泽西研发中心，高级科学家(Senior Staff Scientist)。
2001年 – 2007年： 德国英飞凌公司美国纽约研发中心，高级工程师(Senior/Staff Engineer)。
1998年 – 2001年： 美国能源部橡树岭国家实验室，博士后
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超大规模集成电路先进光刻理论与应用的书评 · · · · · · ( 全部 5 条 )
修雅DYL
最前沿的光刻技术著作
本书全面介绍了光刻设备，工艺，材料和仿真，还加入了针对2X纳米及以下节点的前沿知识，更是凝聚了作者多年来从事半导体先进光刻工艺的经验。书中给出了大量光刻相关的实际工艺图像，详细阐述了光刻技术概念，有助于读者更好的理解。相比于之前的同类书籍，韦亚一老师的《超大...
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matt
超越教科书的实用手册
以往介绍光刻的书籍多出版于较早的时间，介绍的也都是较早技术结点的相关知识。随着光刻技术水平的发展，需要一本介绍最新的光刻技术方面的书籍。韦亚一老师的《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》，贵在“先进”，该书全面介绍了现代光刻工艺的各个方面，都是28纳米以...
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绾绾VE
如果你想成为技术大牛，那么读这本书吧~
这本书出版于2016年6月，是目前国内光刻方面最前沿，最全面也是最系统的书籍，该书覆盖了现代光刻的各个方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺。光刻是集成电路制造中的关键技术，也是所有微纳器件制备过程中必不可少的一道工艺。 该书的作者长期从事半...
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青水
一本集光刻理论、设备与先进工艺为一体的专业图书
由科学出版社出版，中国科学院微电子研究所韦亚一研究员所著的《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》是一部关于先进光刻工艺和理论的著作，该书从光刻设备、材料、仿真和工艺等角度对业界领先的先进光刻进行了系统总结和理论概述，收录了大量先进光刻相关的实际工艺图像，编...
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3 有用 非虛構 2022-05-06 15:13:09
#中国芯项目资料研究# 光刻技术是一类特殊的照相制版技术，它是采用掩模（mask）将电路图形由光刻胶转写-显影，经刻蚀，形成需要的电路图形。图形曝光中使用的缩小投影曝光装置（Steper）是半导体制造装置中最为昂贵的，属于超高精密光学仪器。器件制造中要经过分步相机20～30次的反复曝光，因此光刻工程是IC芯片制程的中枢。首先，在半导体基板上形成绝缘膜。此处，在绝缘膜的下方，半导体元件的一部分已预先... #中国芯项目资料研究# 光刻技术是一类特殊的照相制版技术，它是采用掩模（mask）将电路图形由光刻胶转写-显影，经刻蚀，形成需要的电路图形。图形曝光中使用的缩小投影曝光装置（Steper）是半导体制造装置中最为昂贵的，属于超高精密光学仪器。器件制造中要经过分步相机20～30次的反复曝光，因此光刻工程是IC芯片制程的中枢。首先，在半导体基板上形成绝缘膜。此处，在绝缘膜的下方，半导体元件的一部分已预先形成扩散层。此扩散层的作用是实现电气接触，因此需要在绝缘膜上开孔。这便是接触孔图形。为此，需要在已形成的绝缘膜上涂布称为光刻胶的感光性树脂，采用旋转涂布法涂布。膜层经100℃左右的热处理，使光刻胶中的有机溶剂挥发。此后，采用紫外线，用掩模图形对光刻胶投影，则在光刻胶中形成掩模图形的潜像。 (展开)
0 有用 cope 2023-01-31 14:14:47 广东
1概述，2显影蚀刻机，3光刻机，4光刻胶，5掩模板，6对刀与套刻，7计算光刻，8光刻工艺，9返工，10双重与多重曝光，11极紫外技术。
0 有用 wumoum 2019-06-30 10:28:03
Ch1，Ch2，Ch3，Ch6 四章，其他都翻了一下
0 有用 FuckyouBitch! 2018-10-05 05:54:14
不值这么贵
0 有用 cope 2023-01-31 14:14:47 广东
1概述，2显影蚀刻机，3光刻机，4光刻胶，5掩模板，6对刀与套刻，7计算光刻，8光刻工艺，9返工，10双重与多重曝光，11极紫外技术。
3 有用 非虛構 2022-05-06 15:13:09
#中国芯项目资料研究# 光刻技术是一类特殊的照相制版技术，它是采用掩模（mask）将电路图形由光刻胶转写-显影，经刻蚀，形成需要的电路图形。图形曝光中使用的缩小投影曝光装置（Steper）是半导体制造装置中最为昂贵的，属于超高精密光学仪器。器件制造中要经过分步相机20～30次的反复曝光，因此光刻工程是IC芯片制程的中枢。首先，在半导体基板上形成绝缘膜。此处，在绝缘膜的下方，半导体元件的一部分已预先... #中国芯项目资料研究# 光刻技术是一类特殊的照相制版技术，它是采用掩模（mask）将电路图形由光刻胶转写-显影，经刻蚀，形成需要的电路图形。图形曝光中使用的缩小投影曝光装置（Steper）是半导体制造装置中最为昂贵的，属于超高精密光学仪器。器件制造中要经过分步相机20～30次的反复曝光，因此光刻工程是IC芯片制程的中枢。首先，在半导体基板上形成绝缘膜。此处，在绝缘膜的下方，半导体元件的一部分已预先形成扩散层。此扩散层的作用是实现电气接触，因此需要在绝缘膜上开孔。这便是接触孔图形。为此，需要在已形成的绝缘膜上涂布称为光刻胶的感光性树脂，采用旋转涂布法涂布。膜层经100℃左右的热处理，使光刻胶中的有机溶剂挥发。此后，采用紫外线，用掩模图形对光刻胶投影，则在光刻胶中形成掩模图形的潜像。 (展开)
0 有用 wumoum 2019-06-30 10:28:03
Ch1，Ch2，Ch3，Ch6 四章，其他都翻了一下
0 有用 FuckyouBitch! 2018-10-05 05:54:14
不值这么贵